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Alta Purezza 99,9% Nano Tantaliu Polvere / Nanoparticelle di Tantalu / Nano Polvere di Tantalu

Descrizione breve:

Nome di u produttu: Polvere di tantalu

Marca: HSG

Mudellu: HSG-07

Materiale: tantalu

Purezza: 99,9% -99,99%

Culore: Grigiu

Forma: Polvere


Detail di u produttu

Tags di u produttu

Parametri di u produttu

Nome di u produttu Polvere di tantalu
Marca HSG
Mudellu HSG-07
Materiale Tantalu
Purità 99,9% - 99,99%
Culore Grisgiu
Forma Polvere
Caratteri Tantalum hè un metallu argentu chì hè suave in a so forma pura. Hè un metale forte è duttile è à a temperatura sottu à 150 ° C (302 ° F), stu metallu hè abbastanza immune à l'attaccu chimicu. Hè cunnisciutu per esse resistente à a corrosione, postu chì mostra una film d'oxidu nantu à a so superficia
Applicazione Adupratu com'è additivu in lega speciale metalli ferrosi è non ferrosi. O utilizatu per l'industria elettronica è a ricerca è a sperimentazione scientifica
MOQ 50 kg
Pacchettu Vacuum sacchetti di carta d'aluminiu
Storage in cundizione secca è fresca

Cumpusizioni chimica

Nome: polvere di tantalu Spec:*
Chimica: % TAGLIA: 40-400 mesh, micron

Ta

99,9% min

C

0,001%

Si

0,0005%

S

<0,001%

P

<0,003%

*

*

Descrizzione

Tantalum hè unu di l'elementi più rari in a terra.

Stu metallu di culore grisgiu platinu hà una densità di 16,6 g/cm3 chì hè duie volte più densu di l'acciaio, è u puntu di fusione di 2, 996 ° C diventendu u quartu più altu di tutti i metalli. Intantu, hè assai ductile à alte temperature, assai duru è eccellenti proprietà di cunduttori termali è elettrici. U polu di tantalu hè classificatu in dui tipi secondu l'applicazione: u polu di tantalu per a metallurgia di u polu è u polu di tantalu per u condensatore. A polvere metallurgica di tantalu prodotta da UMM hè carattarizata da dimensioni di granu particularmente fine è pò esse facilmente furmata in bastone di tantalu, barra, foglia, piastra, target sputter è cusì, inseme cù alta purezza, è risponde à tutti i bisogni di i clienti.

Table Ⅱ Variazioni Permissibili in Diameter for Tantalum Rods

Diametru, inch (mm) Tolleranza, +/-inch (mm)
0,125 ~ 0,187 escl (3,175 ~ 4,750) 0,003 (0,076)
0,187 ~ 0,375 escl (4,750 ~ 9,525) 0,004 (0,102)
0,375 ~ 0,500 escl (9,525 ~ 12,70) 0,005 (0,127)
0,500 ~ 0,625 escl (12,70 ~ 15,88) 0,007 (0,178)
0,625 ~ 0,750 escl (15,88 ~ 19,05) 0,008 (0,203)
0,750 ~ 1,000 escl (19,05 ~ 25,40) 0,010 (0,254)
1.000~1.500 escl (25.40~38.10) 0,015 (0,381)
1.500~2.000 escl (38.10~50.80) 0,020 (0,508)
2.000~2.500 escl (50.80~63.50) 0,030 (0,762)

Applicazione

A polvera metallurgica di tantalu hè principalmente aduprata per a produzzione di mira di sputtering di tantalu, a terza applicazione più grande per a polvera di tantalu, dopu à condensatori è superleghe, chì hè principalmente aduprata in applicazioni di semiconduttori per u processu di dati à alta velocità è per soluzioni di almacenamento in l'industria di l'elettronica di cunsumu.

U polu metallurgicu di tantalu hè ancu usatu per trasfurmà in bastone di tantalu, bar, filu, foglia, piastra.

Cù malleabilità, resistenza à alta temperatura è resistenza à a corrosione, u polu di tantalu hè largamente utilizatu in l'industria chimica, l'elettronica, l'industria militare, meccanica è aerospaziale, per fabricà cumpunenti elettronici, materiali resistenti à u calore, equipaghji resistenti à a corrosione, catalizzatori, fusti, vetru otticu avanzatu. eccetera. U polu di tantalu hè ancu usatu in l'esame medico, materiali chirurgici è agenti di cuntrastu.


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